具有很高的脱氧能力。同时发现，这种铸铁结晶时的过冷度小。例如碳化硅与75硅铁在一起，在炉料中计入2.5%的碳化硅，用感应电炉熔炼的含碳3.5%的铁水实际上是在无过冷度的情况下结晶，也就是说在1150℃结晶，在炉料中添加碳化硅熔炼出铸铁的具有细小的晶粒（1mm²上有200个共晶团）。当进一步用75硅铁进行孕育处理后，共晶团的数量几乎增加，但是铁水在1480±20℃精致23分钟后，共晶团数量加到孕育前的水平。
绿碳化硅微粉是由碳原子和硅原子以共价键为主相结合而构成的化合物。共价键是四种基本的键型中结合力很强的一种，四种基本的键型有离子键、共价键、金属键、分子键，再加上绿碳化硅微粉中的碳原子与硅原子相互作用成键时，发生了电子在壳层上的转移，形成了键能更为坚强的SP3杂化轨道。总之，绿碳化硅微粉结构形成的原因与共价键有关，也与碳原子与硅原子的相互作用有关。
碳化硅的呈色原因有多种不同的解释。一般认为是由外来杂质的存在引起的，如，以碳化硼的形式引入硼时，会使晶体呈黑色；当晶体中含氮时则为绿色。的外观颜色除与晶体本身的色泽有关外还与自然光在晶体表面薄膜的干涉现象有关。当碳化硅晶体表面的氧化硅薄膜厚度不同时，或对光线的反射角度不同时，碳化硅晶体表面的呈色亦名不相同。因此在自然光下常常看到碳化硅具有绚丽多彩的色泽。不同颜色的，生产工艺也有所不同，因此，大家在使用过程中也是需要了解不同种类碳化硅的特性。
对于研磨还是相对比较了解的。研磨简单的说就是将磨料及其附加剂涂于或嵌在研磨工具表面上，在进行压力的作用下，通过借助于研磨工具和被研磨工件之间的相对运动，从被研磨工件表面上除去极薄的金属层，从而使工件取得极高精度的一种技术办法。由此可见，被研磨工件的质量首要决定于所选用的研磨办法、磨料、附加剂、研磨东西，研磨时的压力、研磨运动和工件研磨前的预加工等方面的因素。
使用商业碳化硅炉有时可以生长出大的半导体碳化硅晶体。然后实验室规模成功地合成了这种晶体材料。生长在石墨坩埚内部的空心圆柱体中的碳化硅晶片是在碳管炉内加热到2500℃以上制成的，温度的安排是要使得碳化硅圆柱体的中间温度较外部为低。向里面扩散的碳化硅蒸汽因而变得过饱和，并且在圆柱体的中间冷凝下来形成单晶体。可以在工作气筑中引入某种杂质以改变生长的晶体的成分。
碳化硅的一些抗氧化性能：当碳化硅材料在空气中加热到1300℃是，优良碳化硅磨料就会表面开始生成保护层，随着保护层的加厚，会阻止内部碳化硅的继续氧化，这使碳化硅有较好的抗氧化性。日照碳化硅磨料当温度达到1900k以上时，二氧化硅保护膜开始被破坏，碳化硅氧化作用加剧，所以1900k就是碳化硅在含氧化剂气氛下的温度。
